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按照第一张手绘风格统一调整，保留原有的文字和流程信息，手账风加…
按照第一张手绘风格统一调整，保留原有的文字和流程信息，手账风加轻科技元素，保持色调明亮不发黑，文字清晰为简体中文，适配电子束光刻内容展示
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2026.07.17
做同款
按照第一张手绘风格统一调整，保留原有的文字和流程信息，手账风加轻科技元素，保持色调明亮不发黑，文字清晰为简体中文，适配电子束光刻内容展示
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手账风轻科技科普配图，主题为“第二步 掩模版制作”，内容是微纳光电子芯片掩模版制作环节的图解，文字清晰为简体中文，整体明亮手绘风格，适合电子束光刻内容展示
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手账风轻科技科普配图，主题为“第四步 划片”，内容是微纳光电子芯片划片环节的图解，文字清晰为简体中文，整体明亮手绘风格，适合电子束光刻内容展示
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手账风轻科技科普配图，主题为“第三步 晶圆加工”，重点突出华慧高芯5000㎡超净实验室场景，内容是微纳光电子芯片晶圆加工环节图解，文字清晰为简体中文，整体明亮手绘风格，适合电子束光刻内容展示
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小红书笔记内容图，手账拼贴风+轻科技元素，版式精美，信息层级清晰，适合小红书竖版阅读。主标题逐字锁定：「光刻不是只算衍射」。副标题：「对准标记+胶厚才是关键」。背景：浅米色方格笔记纸纹理，淡蓝色科技网格线若隐若现，整体明亮。内容区：左侧手绘电子束光刻示意图（电子束枪、晶圆台、光刻胶层简笔画），右侧三条要点清单用便签纸样式呈现：「①对准标记怎么画」「②光刻胶厚度怎么控」「③波导偏几十nm损耗翻倍」。文字：深靛蓝粗黑体标题，黑色正文手写体，关键词用荧光青绿色高亮。装饰：胶带贴纸固定便签、1个📉emoji在右下角、手绘波浪下划线。整体氛围：学习干货、手账记录感、轻科技不发黑。画质：高清细腻，文字清晰可读，四周留安全边距。画面比例3:4。
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小红书笔记内容图，手账拼贴风+轻科技元素，版式精美，信息层级清晰，适合小红书竖版阅读。主标题逐字锁定：「光刻不是只算衍射」。副标题：「对准标记+胶厚才是关键」。背景：浅米色方格笔记纸纹理，淡蓝色科技网格线若隐若现，整体明亮。内容区：左侧手绘电子束光刻示意图（电子束枪、晶圆台、光刻胶层简笔画），右侧三条要点清单用便签纸样式呈现：「①对准标记怎么画」「②光刻胶厚度怎么控」「③波导偏几十nm损耗翻倍」。文字：深靛蓝粗黑体标题，黑色正文手写体，关键词用荧光青绿色高亮。装饰：胶带贴纸固定便签、1个📉emoji在右下角、手绘波浪下划线。整体氛围：学习干货、手账记录感、轻科技不发黑。画质：高清细腻，文字清晰可读，四周留安全边距。画面比例3:4。
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小红书笔记内容图，手账拼贴风+轻科技元素，版式精美，信息层级清晰，适合小红书竖版阅读。主标题逐字锁定：「光刻不是只算衍射」。副标题：「对准标记+胶厚才是关键」。背景：浅米色方格笔记纸纹理，淡蓝色科技网格线若隐若现，整体明亮。内容区：左侧手绘电子束光刻示意图（电子束枪、晶圆台、光刻胶层简笔画），右侧三条要点清单用便签纸样式呈现：「①对准标记怎么画」「②光刻胶厚度怎么控」「③波导偏几十nm损耗翻倍」。文字：深靛蓝粗黑体标题，黑色正文手写体，关键词用荧光青绿色高亮。装饰：胶带贴纸固定便签、1个📉emoji在右下角、手绘波浪下划线。整体氛围：学习干货、手账记录感、轻科技不发黑。画质：高清细腻，文字清晰可读，四周留安全边距。画面比例3:4。
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风格统一
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手账风格结合科技风图片，第二页内容是光栅的制备工艺流程图解，用图标和文字分步展示，搭配装饰贴纸，色调明快，线条清晰，兼顾科技感和手账的活泼感
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手账风轻科技科普配图，主题为“第六步 测试”，内容是微纳光电子芯片测试环节的图解，文字清晰为简体中文，整体明亮手绘风格，适合电子束光刻内容展示
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手账风内容图，文字是"坑一：设计规则检查不到位，流片即报废"，加入轻科技元素，整体色调不发黑，有适合电子束光刻的配图，文字是清晰的简体汉字，风格清新简约。
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主题为“微纳光电子芯片是怎么造出来的？7张图看懂全流程”的手账风科普封面图，加入轻科技元素，整体色调明亮不发黑，包含清晰的黑色简体中文标题文字，画面清新手绘风格
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手账风轻科技科普配图，主题为“第五步 封装”，内容是微纳光电子芯片封装环节的图解，提到华慧高芯服务过300家企业，文字清晰为简体中文，整体明亮手绘风格，适合电子束光刻内容展示
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小红书笔记内容图，手账拼贴风融合轻科技感，版式精美，小红书笔记内页质感。主标题逐字锁定：「坑1：边缘和中间的孔不一样大」。主标题用扁平粗黑体深墨蓝色，加荧光青绿色色块底框。内容分两栏：左侧「为什么」板块文字：「你画的孔都一样，做出来边缘的比中间小几十纳米。光子晶体波导对孔直径超敏感，20nm偏差波长直接飘走。」；右侧「怎么办」板块文字：「边缘孔画大一点，中间保持原样。找Fab要邻近效应校正文件对着调。」。背景：浅米色笔记纸纹理，带淡蓝色细网格。插画配图：画面下半部分配极简扁平科技插画——电子束光刻示意图（电子束打在晶圆上）+ 一排大小不一的纳米孔截面图，配色清新（青蓝、薄荷绿、米白），线条细腻，适合表现光刻工艺。装饰：手账便签框、虚线、小箭头、1个小灯泡emoji贴纸点缀，不抢文字。整体氛围：手账学习笔记感+轻科技感，明亮清爽不暗黑，文字清晰简体中文。画质：高清细腻，信息层级清晰，文字完整处于安全区内不可裁切，四周留安全边距。画面比例3:4，4K。
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小红书笔记内容图，手账拼贴风融合轻科技感，版式精美，小红书笔记内页质感。主标题逐字锁定：「坑1：边缘和中间的孔不一样大」。主标题用扁平粗黑体深墨蓝色，加荧光青绿色色块底框。内容分两栏：左侧「为什么」板块文字：「你画的孔都一样，做出来边缘的比中间小几十纳米。光子晶体波导对孔直径超敏感，20nm偏差波长直接飘走。」；右侧「怎么办」板块文字：「边缘孔画大一点，中间保持原样。找Fab要邻近效应校正文件对着调。」。背景：浅米色笔记纸纹理，带淡蓝色细网格。插画配图：画面下半部分配极简扁平科技插画——电子束光刻示意图（电子束打在晶圆上）+ 一排大小不一的纳米孔截面图，配色清新（青蓝、薄荷绿、米白），线条细腻，适合表现光刻工艺。装饰：手账便签框、虚线、小箭头、1个小灯泡emoji贴纸点缀，不抢文字。整体氛围：手账学习笔记感+轻科技感，明亮清爽不暗黑，文字清晰简体中文。画质：高清细腻，信息层级清晰，文字完整处于安全区内不可裁切，四周留安全边距。画面比例3:4，4K。
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参考这张模板，生成光栅分层结构科普海报，保留手绘手账风格，主标题改为“光栅分层结构”，副标题为“从入射到出射，一步步看懂光学核心”，按照参考图版式排版，保留6个分层结构说明、流程箭头和总结区域，所有文字必须完整清晰准确呈现，使用彩色手绘风格，笔记本背景，紫色外框，装饰小元素风格和位置与参考图一致，画面中所有二维码区域使用纯色方块占位符呈现，方块中央标注"二维码占位"文字，严禁生成任何可识别的二维码图案，画面中所有数字必须精确渲染，不得错位、遗漏或编造
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手账风格结合科技风图片，第四页内容总结光栅技术要点，搭配光栅产品实物图和核心文字总结，整体风格统一，有边框装饰，适合手账收藏
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小红书内页图文排版，手账拼贴风+轻科技元素，浅色系明亮不发黑，版式精美，适合小红书竖版阅读。主标题：「3个工艺环节，趁在学校赶紧补」。正文分三个编号板块，文字清晰简体中文：「① 光刻：别光算衍射，搞懂对准标记怎么画、光刻胶厚度怎么控」「② 刻蚀：ICP刻蚀不是按按钮，气体配比差一点，光栅直接刻穿」「③ 沉积+封装：膜应力翘曲、折射率不匹配、光纤耦合对歪」。背景：淡青色渐变笔记纸，三个板块用不同颜色便签纸区分（浅粉/浅黄/浅蓝），手账风。配图：每个板块旁配对应极简扁平小插画——①光刻：掩模版+晶圆对准备示意图；②刻蚀：ICP刻蚀腔室线稿；③沉积：薄膜沉积层示意图。轻科技线稿风格。装饰：手绘数字圈1️⃣2️⃣3️⃣，荧光笔下划线，胶带贴纸边角，小扳手emoji点缀。整体氛围：干货清单+手账清新，条理清晰。画质：高清细腻，文字清晰可读，信息层级分明，四周留安全边距。画面比例 3:4，4K。
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参考图版式骨架，生成定制光栅分层结构科普手账风格海报，替换内容为定制光栅相关，保留原排版结构：线圈笔记本底纹，手绘卡通可爱风格，主标题为"定制光栅分层结构"，副标题为"从入射光到出射，一步步看懂光学核心"，保留6层分层示意图和文字说明区域，底部保留流程箭头和总结框，配色保持活泼马卡龙色系，保留装饰元素星星爱心相机，文字清晰可读，画面中所有数字必须精确渲染，不得错位、遗漏或编造，画面中所有二维码区域使用纯色方块占位符呈现，方块中央标注"二维码占位"文字，严禁生成任何可识别的二维码图案
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选题是：《薄膜铌酸锂 vs 硅光：光电子芯片两大技术路线怎么选？》 内容要点是： · 薄膜铌酸锂：电光效应优异、高速调制能力强 · 硅光：CMOS工艺兼容、成本低、集成度高 · 适用场景对比：通信、传感、计算各选谁 · 结尾：华慧高芯在两条路线上的工艺能力 目的：展现华慧高芯的技术广度和深度，让客户相信“无论选哪条路，我们都能帮你做”帮我生成一组图手账风加一点轻科技的元素 不要太黑 要有文字有图 配图要适合电子束光刻微纳加工的 文字清晰汉字 不要繁体字 一组图风格统一 尺寸为1242×1660 PX
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小红书内容排版图，手账风加轻科技元素，简洁大方，白色和浅蓝底色，不要太黑。标题大字：「工艺工程师 PE」。内容文字：「跟某一台机台死磕到底｜光刻 刻蚀 镀膜｜盯Recipe参数 逮异常Lot 看SPC图表｜适合：动手能力强的细节狂魔」。配图：电子束光刻机台简约线条插画，晶圆和光刻光束图案。手账元素：便签框、胶带、小图标装饰。文字清晰简体汉字，排版整洁，适合小红书发布。画面比例3:4。
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小红书正文配图第1张【痛点原理页】，专业科技媒体排版，完全去掉手绘、手写、荧光笔、笔记本纸纹元素。竖版3:4，四周预留安全留白。暖米白底色，低饱和砂灰圆角信息卡片，关键数值使用低饱和暖橙高亮。标题："EBL电子束曝光，只适合科研打样"；画面：写实EBL曝光设备与纳米柱阵列SEM图；砂灰圆角信息卡片说明串行写入的短板，暖橙高亮标注："1cm²样品曝光几十小时，无法量产"；对比示意毫米级科研样片与1cm²量产面积，布局宽松整洁。搭配写实示意图、SEM局部图示、工艺设备图示；排版规整对齐，信息模块分区清晰，预留文字区域用于后期叠加精细参数文字，禁止赛博特效、卡通、花哨渐变。
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在原图基础上做两处修改：1. 去掉右下角的二维码占位方块，恢复该区域的网格纸背景，保持画面完整干净；2. 整体版式微调以适配竖版3:4比例，各模块布局更紧凑，保持所有文字内容、插图、装饰元素不变。整体风格、浅蓝色调、手绘笔记风、活页纸网格背景、胶带贴纸装饰全部保留。 画面中所有文字必须清晰可读，使用简体中文。画面中所有数字必须精确渲染，不得错位、遗漏或编造。画面中所有信息区域必须填充完整合理的内容，不得出现空白框、空列表项。版式精美，2K分辨率。
创意 × 1
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手账风内容图，文字是"坑4：选错工艺平台，器件性能无法达标"，加入轻科技元素，整体色调不发黑，有适合电子束光刻的配图，文字是清晰的简体汉字，风格清新简约。
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手账风内容图，文字是"坑4：选错工艺平台，器件性能无法达标"，加入轻科技元素，整体色调不发黑，有适合电子束光刻的配图，文字是清晰的简体汉字，风格清新简约。
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